白光干涉儀測量精度易實(shí)現(xiàn),大視場 高精度協(xié)同更具學(xué)術(shù)價(jià)值
發(fā)布時(shí)間:
2026-09-10
作者:
新啟航半導(dǎo)體有限公司

白光干涉儀(White Light Interferometer, WLI)依托短相干干涉原理,亞納米級垂直測量精度較容易在小視場條件下達(dá)成。小視場檢測模式多用于局部點(diǎn)位形貌分析,可穩(wěn)定輸出 Ra、Sa、PV 等粗糙度參數(shù),但取樣范圍受限,難以代表工件整體表面特征,容易出現(xiàn)取樣偏差,與 ISO?4287、ISO?25178 標(biāo)準(zhǔn)的評定長度要求存在沖突。

傳統(tǒng)光學(xué)檢測普遍存在 “高精度則視場狹小,大視場則精度衰減” 的技術(shù)矛盾。若依靠圖像拼接(Image Stitching)拓展范圍,會(huì)引入運(yùn)動(dòng)平臺(tái)機(jī)械誤差(Mechanical Error),帶來錯(cuò)位、畸變等人為偽像,破壞原始形貌數(shù)據(jù),降低測量重復(fù)性(Repeatability),會(huì)削弱實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的學(xué)術(shù)嚴(yán)謹(jǐn)性。

大視場(Large Field?of?View)與高精度協(xié)同的白光干涉方案,可單幀完成大面積三維形貌采集,無需拼接即可滿足標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的取樣及評定區(qū)間,兼顧檢測范圍與納米級測量能力。該模式能夠獲取全域完整原始數(shù)據(jù),規(guī)避局部取樣的片面性與拼接帶來的附加誤差,保障實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)客觀性、可復(fù)現(xiàn)性。

在材料表征、半導(dǎo)體、精密零部件等科研與工程場景,大視場?高精度協(xié)同檢測可為形貌機(jī)理研究、工藝效應(yīng)分析提供更完整的數(shù)據(jù)集,相比單點(diǎn)小視場測量,更具備學(xué)術(shù)參考價(jià)值,同時(shí)為量產(chǎn)質(zhì)控提供標(biāo)準(zhǔn)化檢測路徑。

WLI 1000系列與ZYGO主流機(jī)型參數(shù)對標(biāo)

WLI 1000 系列參數(shù)取自設(shè)備官方白皮書及公開招標(biāo)技術(shù)資料;ZYGO 各機(jī)型參數(shù)來源于原廠技術(shù)手冊、官方產(chǎn)品公示及政府采購公開文件,全部技術(shù)數(shù)據(jù)均可公開溯源。

白光干涉儀測量精度易實(shí)現(xiàn),大視場 高精度協(xié)同更具學(xué)術(shù)價(jià)值

德國 WLI 大視場技術(shù)核心優(yōu)勢

白光干涉儀測量精度易實(shí)現(xiàn),大視場 高精度協(xié)同更具學(xué)術(shù)價(jià)值

WLI 大視場 3D 白光干涉儀有效彌補(bǔ)傳統(tǒng)干涉儀視場范圍有限、缺少原生低倍物鏡的行業(yè)短板,兼顧大視野觀測能力與納米級測量精度。設(shè)備可一體化完成工件三維形貌表征、幾何尺寸檢測、微觀缺陷識(shí)別分析,適配半導(dǎo)體、精密光學(xué)、超精密加工行業(yè)的質(zhì)量管控與科研測量需求。

大視場與高精度一體化測量能力

白光干涉儀測量精度易實(shí)現(xiàn),大視場 高精度協(xié)同更具學(xué)術(shù)價(jià)值

白光干涉儀測量精度易實(shí)現(xiàn),大視場 高精度協(xié)同更具學(xué)術(shù)價(jià)值

設(shè)備配置專屬 0.6× 大視場物鏡,突破行業(yè)傳統(tǒng)設(shè)備 1× 倍率起步的限制,原廠標(biāo)定最大成像視場可達(dá) 15.5mm。依托一體化電動(dòng)轉(zhuǎn)臺(tái)架構(gòu),實(shí)現(xiàn)大視場宏觀觀測與納米級微觀測量的無縫切換,無需拆裝鏡頭或者更換設(shè)備,大幅提升批量樣品檢測效率,保障多組測試數(shù)據(jù)的一致性。

白光干涉儀測量精度易實(shí)現(xiàn),大視場 高精度協(xié)同更具學(xué)術(shù)價(jià)值

設(shè)備可穩(wěn)定完成 14mm 端面平面度高精度檢測,具備 0.006nm 級超高粗糙度檢測性能,能夠精準(zhǔn)解析 Ra、Rz 等關(guān)鍵表面粗糙度指標(biāo),滿足超精密器件嚴(yán)苛的納米量級測量要求。

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工業(yè)場景核心應(yīng)用價(jià)值

白光干涉儀測量精度易實(shí)現(xiàn),大視場 高精度協(xié)同更具學(xué)術(shù)價(jià)值

光學(xué)鏡頭若 PV/RMS 面形參數(shù)不達(dá)標(biāo),會(huì)造成光路發(fā)生偏移,直接導(dǎo)致焦距、成像視場、分辨率等核心光學(xué)參數(shù)失效,造成鏡頭整體性能報(bào)廢。

在半導(dǎo)體 CMP 工藝環(huán)節(jié),研磨碟盤金剛石顆粒共面度、金剛石出露高度的一致性,會(huì)直接影響拋光工藝效果,決定晶圓成品良率以及耗材的實(shí)際使用壽命。

新啟航半導(dǎo)體|專業(yè)白光干涉 3D 輪廓測量方案。亞納米精度保障,支持自動(dòng)化定制;高端系列對標(biāo)國際一線品牌,大視野設(shè)計(jì),輕松應(yīng)對高低反射、復(fù)雜材料測量場景。


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