激光共聚焦顯微鏡（Laser Confocal Microscope, LCM）高倍物鏡單幀視場(chǎng)（Field of View, FOV）狹小，半導(dǎo)體大尺寸晶圓、封裝基板等工件需要依靠圖像拼接（Image Stitching）完成全域形貌采集。受運(yùn)動(dòng)平臺(tái)硬件性能限制，拼接過(guò)程極易引入機(jī)械誤差（Mechanical Error），產(chǎn)生高低錯(cuò)位、傾斜偏移、波紋畸變等拼接失真。
該失真會(huì)直接破壞 ISO4287、ISO25178 形貌檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)要求，造成粗糙度（Surface Roughness）、臺(tái)階高度、凸點(diǎn)形貌等參數(shù)重復(fù)性（Repeatability）變差。標(biāo)準(zhǔn)校準(zhǔn)塊因表面均勻，拼接失真不易顯現(xiàn)；但半導(dǎo)體工件表面存在微觀起伏，拼接偏差會(huì)進(jìn)一步放大數(shù)據(jù)失真（Data Distortion），影響 CMP 拋光質(zhì)量、凸點(diǎn)高度、晶圓翹曲（BOW/WARP）的工藝判定。濾波算法僅能掩蓋表象，無(wú)法從根源消除拼接帶來(lái)的系統(tǒng)偏差。
白光干涉儀（White Light Interferometer, WLI）作為有效替代方案，依托短相干干涉原理，依靠大視場(chǎng)物鏡實(shí)現(xiàn)單幀大范圍三維形貌采集，規(guī)避圖像拼接帶來(lái)的附加誤差，滿足標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的取樣與評(píng)定長(zhǎng)度。設(shè)備具備亞納米級(jí)垂直分辨率，可直接輸出 Sa、Ra 等三維形貌參數(shù)。
在半導(dǎo)體產(chǎn)線中，WLI 可完成晶圓形變、CMP 碟盤共面度（Coplanarity）、封裝焊盤微觀缺陷檢測(cè)，獲取可溯源的全域量化數(shù)據(jù)，減少因測(cè)量失真造成的工藝誤判，保障晶圓鍵合（Bonding）、封裝制程的良率與器件可靠性。
激光共聚焦顯微鏡（Laser Confocal Microscope, LCM）在超精密粗糙度檢測(cè)中，常出現(xiàn)實(shí)測(cè)重復(fù)性（Repeatability）差，與白光干涉儀測(cè)量結(jié)果不一致，但校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)塊時(shí)數(shù)據(jù)正常的現(xiàn)象。其根源來(lái)自物鏡（Objective Lens）視野（Field of View, FOV）的先天約束，高倍物鏡單幅視場(chǎng)不足，無(wú)法滿足 ISO4287、ISO25178 規(guī)定的取樣長(zhǎng)度與評(píng)定長(zhǎng)度要求，工業(yè)工件表面形貌非均勻，過(guò)小取樣范圍會(huì)造成數(shù)據(jù)失真（Data Distortion）。
采用圖像拼接（Image Stitching）拓展視場(chǎng)可作為補(bǔ)償手段，但拼接精度高度依賴運(yùn)動(dòng)平臺(tái)硬件。壓電平臺(tái)精度高但成本高昂；伺服電機(jī)平臺(tái)易引入錯(cuò)位、高低偏移等機(jī)械誤差（Mechanical Error），算法濾波無(wú)法從根本消除測(cè)量偏差。
大視野白光干涉儀（White Light Interferometer, WLI）可解決上述痛點(diǎn)，可實(shí)現(xiàn)大視場(chǎng)單幀采集，滿足 ISO 標(biāo)準(zhǔn)評(píng)定長(zhǎng)度，規(guī)避取樣不足帶來(lái)的系統(tǒng)誤差。設(shè)備兼顧納米級(jí)垂直精度與大視野測(cè)量能力，無(wú)需大量圖像拼接，可完整獲取全域三維形貌，輸出 Sa、Ra 等面粗糙度參數(shù)。
在半導(dǎo)體領(lǐng)域，可用于化學(xué)機(jī)械拋光 CMP 碟盤金剛石顆粒共面度（Coplanarity）、晶圓翹曲 BOW/WARP 形變（Deformation）、晶圓超光滑表面粗糙度檢測(cè)，支撐拋光工藝優(yōu)化（Polishing Process Optimization）、晶圓鍵合（Bonding）前質(zhì)量核驗(yàn)，有效減少芯片虛焊、破損等工藝風(fēng)險(xiǎn)，為半導(dǎo)體精密制程提供可溯源的量化檢測(cè)數(shù)據(jù)。
新啟航半導(dǎo)體｜專業(yè)白光干涉 3D 輪廓測(cè)量方案。亞納米精度保障，支持自動(dòng)化定制；高端系列對(duì)標(biāo)國(guó)際一線品牌，大視野設(shè)計(jì)，輕松應(yīng)對(duì)高低反射、復(fù)雜材料測(cè)量場(chǎng)景。
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