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白光干涉儀微區(qū)精度已趨飽和，大視場高效測量成為當前研究重點

白光干涉儀（White Light Interferometer，WLI）基于短相干干涉機制，經(jīng)過長期技術(shù)迭代，微區(qū)條件下亞納米級垂直測量精度已經(jīng)趨于技術(shù)飽和，依...

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2026

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USI白光掃描多層微納工件形貌檢測數(shù)據(jù)異常機理分析

本文依據(jù)設(shè)備官方技術(shù)手冊及工業(yè)實測公開數(shù)據(jù)，聚焦通用掃描干涉算法（Universal Scanning Interferometry, USI）在半導體低反透明介...

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高頻板材銅箔粗糙度過大，白光干涉儀削弱 集膚效應(yīng) (Ski...

高頻印制電路板（Printed Circuit Board, PCB）高速信號傳輸過程中存在集膚效應(yīng)（Skin Effect），交變電流僅沿導體表層流動，且信號頻...

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2026

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09

白光干涉儀微區(qū)精度已趨飽和大視場高效測量成為當前研究重點

白光干涉儀（White Light Interferometer, WLI）依托短相干干涉原理，經(jīng)過多年技術(shù)迭代，小范圍微區(qū)的亞納米級垂直測量能力已趨于飽和，算法...

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