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        新啟航半導體有限公司


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        08
        2024
        -
        07
        科普分享|氧化鎵
        來源:沃衍資本 近來,氧化鎵(Ga2O3)作為一種“超寬禁帶半導體”材料,得到了持續關注。超寬禁帶半導體也屬于“第四代半導體”,與第三代半導體碳化硅(S...
        科普分享|氧化鎵
        04
        2024
        -
        07
        科普分享|雙重與多重圖形技術
        雙重圖形技術是將193nm浸沒式光刻延伸至關鍵尺寸<=45nm的芯片制造關鍵技術。與非線性雙重曝光技術不同,雙重圖形技術不存在材料與產率方面的問題,已廣泛應...
        科普分享|雙重與多重圖形技術
        03
        2024
        -
        07
        科普分享|低成本光刻技術之激光直寫光刻
        低成本光刻主要指的是無需投影成像的光刻技術,如掩模接近式光刻,激光直寫光刻,無衍射極限的光學光刻等。盡管這些技術的產率、分辨率和工藝控制能力普遍低于DUV和EUV...
        科普分享|低成本光刻技術之激光直寫光刻
        03
        2024
        -
        07
        芯聞動態|Omdia研究發現,半導體市場因需求疲軟而出現季度...
        來源:內容來自Omdia摘要 根據Omdia的最新的半導體總體競爭工具(Competitive Landscaping Tool)顯示,2024年第一季...
        芯聞動態|Omdia研究發現,半導體市場因需求疲軟而出現季度下滑
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