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      03
      2026
      -
      07
      光學 3D 輪廓儀檢測 CMOS 感光芯片 COB 平面度(...
      在CMOS圖像傳感器(CMOS Image Sensor, CIS)COB(Chip On Board,板上芯片)封裝制程中,芯片平面度(Flatness)是決定...
      光學 3D 輪廓儀檢測 CMOS 感光芯片 COB 平面度(Flatness),解析封裝制程應用優勢
      03
      2026
      -
      07
      微透鏡占空比、填充率與尺寸偏差,采用白光干涉儀實現一體化測量
      微透鏡陣列(Microlens Array, MLA)是精密光學、光電成像與光通信領域的核心元器件,其占空比(Duty Cycle of Microlens)、填...
      微透鏡占空比、填充率與尺寸偏差,采用白光干涉儀實現一體化測量
      02
      2026
      -
      07
      MLCC 全流程生產制程質控(Production Proc...
      多層陶瓷電容器(Multi-Layer Ceramic Capacitor, MLCC)端電極銀漿厚度直接決定器件焊接可靠性、阻抗穩定性與服役壽命,是量產制程核心...
      MLCC 全流程生產制程質控(Production Process Quality Control),依靠光學 3D 輪廓儀完成銀漿厚度批量檢測
      02
      2026
      -
      07
      3D白光干涉儀替代激光共聚焦在半導體超精密形貌測量的應用(3...
      半導體與精密制造領域中,工件直線度、微觀形貌精準測量是品質管控核心環節。激光共聚焦顯微鏡(LCM)拼接檢測普遍存在波紋抖動、形貌錯位、數據失真等問題,無法滿足IS...
      3D白光干涉儀替代激光共聚焦在半導體超精密形貌測量的應用(3D White Light Interferometer Replace LCM for Semiconductor Ultra-Precision Morphology Measurement)
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