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        新啟航半導(dǎo)體有限公司


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        2026
        -
        07
        光學輪廓測量評估煤粉輸送閥平面度防竄漏(Anti-chann...
        在煤粉輸送系統(tǒng)中,輸送閥密封面平面度(Flatness)超差是引發(fā)防竄漏失效(Anti-channeling Failure)、煤粉外漏及管路壓力擾動的核心誘因。...
        光學輪廓測量評估煤粉輸送閥平面度防竄漏(Anti-channeling)應(yīng)用價值
        15
        2026
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        07
        MEMS 傳感器溝槽刻蝕(Groove Etching of...
        摘要微機電系統(tǒng)傳感器(Micro-Electro-Mechanical Systems, MEMS)制備過程中,溝槽刻蝕形貌、薄膜沉積厚度、多層結(jié)構(gòu)臺階高度,是決...
        MEMS 傳感器溝槽刻蝕(Groove Etching of MEMS Sensor)、薄膜厚度(Thin Film Thickness)與臺階高度(Step Height)測量,采用白光干涉儀檢測
        11
        2026
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        07
        激光共聚焦粗糙度問題與白光干涉儀革新應(yīng)用
        在半導(dǎo)體、超精密制造領(lǐng)域,表面粗糙度測量精度直接決定產(chǎn)品質(zhì)量與服役性能。激光共聚焦顯微鏡(LCM)存在工業(yè)樣品檢測偏差大、重復(fù)性差的普遍問題,但其校準標準塊數(shù)據(jù)穩(wěn)...
        激光共聚焦粗糙度問題與白光干涉儀革新應(yīng)用
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        2026
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        MEMS 芯片 微觀形變 (Micro Deformati...
        摘要MEMS芯片多層薄膜沉積、干法刻蝕、晶圓鍵合制程易產(chǎn)生殘余應(yīng)力,誘發(fā)懸臂梁、傳感膜片產(chǎn)生微觀形變(Micro Deformation)缺陷,進而造成器件零點漂...
        MEMS 芯片  微觀形變 (Micro Deformation)缺陷,白光干涉儀全方位把控批量生產(chǎn) (Batch Production) 工藝品質(zhì)
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