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    07
    2026
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    芯片 化學機械拋光 (CMP)粗糙度偏差,白光干涉儀校準全...
    化學機械拋光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)是先進半導體芯片制造中實現全局平坦化(Global Planarization)...
    芯片  化學機械拋光 (CMP)粗糙度偏差,白光干涉儀校準全局平坦化 (Global Planarization) 生產參數
    05
    2026
    -
    09
    直線度 ISO 12780 規范 共聚焦顯微鏡缺陷與白光干涉...
    直線度(Straightness)是精密零部件形位公差關鍵指標,ISO?12780 規定了直線度的取樣、濾波與評定準則,廣泛應用于半導體、光學元器件等高精密制造質...
    直線度 ISO 12780 規范 共聚焦顯微鏡缺陷與白光干涉儀對策
    05
    2026
    -
    09
    光學輪廓測量在冶金高溫熱風閥平面度檢測中的應用
    冶金高溫熱風閥(Metallurgical high-temperature hot air valve)是高爐熱風循環系統關鍵密封設備,其密封面平面度(seal...
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    05
    2026
    -
    09
    芯片 刻蝕形貌 (Etching Morphology)表...
    半導體精密微加工(Precision Micro Machining)干法刻蝕(Dry Etching)制程中,芯片刻蝕形貌(Etching Morphology...
    芯片  刻蝕形貌 (Etching Morphology)表面粗糙度失準,白光干涉儀整改精密微加工 (Precision Micro Machining) 弊病
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