• 公司新聞
• 行業(yè)動(dòng)態(tài)
• 企業(yè)黨建

29

2026

-

05

微透鏡陣列排布間距 (Array Pitch) 異常管控：白...

一、工藝痛點(diǎn)與傳統(tǒng)檢測局限微透鏡陣列排布間距（Array Pitch）是決定勻光、光束匹配、光學(xué)耦合性能的核心幾何參數(shù)，其排布一致性直接影響半導(dǎo)體光學(xué)器件的成品性...

29

2026

-

05

基于白光干涉儀的超光滑樣品微觀形貌表征與工藝異常溯源研究

一、研究概述超光滑光學(xué)樣品是精密光學(xué)、半導(dǎo)體、激光器件等高端產(chǎn)業(yè)的核心基材，其表面納米級粗糙度、微觀形貌及微結(jié)構(gòu)缺陷，直接影響器件光學(xué)透過率、鍍膜品質(zhì)與使用壽命。...

28

2026

-

05

白光干涉儀排查微透鏡成型制程曲率半徑偏差隱患解決方案

一、行業(yè)制程痛點(diǎn)與檢測需求微透鏡及微透鏡陣列是光電成像、光纖耦合、光傳感、半導(dǎo)體光學(xué)系統(tǒng)的核心精密元件，曲率半徑作為其核心幾何參數(shù)，直接決定元件聚焦性能與成像質(zhì)量...

28

2026

-

05

白光干涉儀高精度表征下超光滑樣品表面瑕疵與工藝誤差關(guān)聯(lián)性研究

一、研究背景與檢測技術(shù)優(yōu)勢超光滑樣品是極紫外光學(xué)元件、半導(dǎo)體晶圓、高能激光器件等高端領(lǐng)域的核心基材，其表面微觀劃痕、麻點(diǎn)、凹凸缺陷及全域面形誤差，會(huì)直接降低光學(xué)成...

• 共98頁
• 首頁
• 上一頁
• ...
• 62
• 63
• 64
• 65
• 66
• 67
• 68
• 69
• 70
• 71
• ...
• 下一頁
• 尾頁